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國標(biāo)設(shè)備

電壓擊穿測(cè)試儀耐電弧試驗(yàn)儀高壓、低壓漏電起痕表面體積電阻率（高阻計(jì)）電弱點(diǎn)試驗(yàn)儀 50點(diǎn)耐壓測(cè)試儀

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HCLD-III電氣絕緣材料漏電起痕試驗(yàn)儀

更新時(shí)間：2024-06-05

型號(hào)：HCLD-III

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電氣絕緣材料漏電起痕試驗(yàn)儀是根據(jù)GB4706.1-2008GB4207-2003GB/T6553-2003IEC60112-2003《固體絕緣材料耐電痕化指數(shù)和相比電痕化指數(shù)的測(cè)定方法》，UL746A、ASTMD3638-92、DIN53480等標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的模擬試驗(yàn)項(xiàng)目。
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HCLD-III控制精密漏電起痕試驗(yàn)儀測(cè)試儀器

更新時(shí)間：2024-06-05

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控制精密漏電起痕試驗(yàn)儀測(cè)試儀器是根據(jù)GB4706.1-2008GB4207-2003GB/T6553-2003IEC60112-2003《固體絕緣材料耐電痕化指數(shù)和相比電痕化指數(shù)的測(cè)定方法》，UL746A、ASTMD3638-92、DIN53480等標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的模擬試驗(yàn)項(xiàng)目。
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HCLD-III高壓漏電起痕試驗(yàn)儀測(cè)試儀器

更新時(shí)間：2024-12-12

型號(hào)：HCLD-III

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高壓漏電起痕試驗(yàn)儀測(cè)試儀器，是根據(jù)GB4706.1-2008GB4207-2003GB/T6553-2003IEC60112-2003《固體絕緣材料耐電痕化指數(shù)和相比電痕化指數(shù)的測(cè)定方法》，UL746A、ASTMD3638-92、DIN53480等標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的模擬試驗(yàn)項(xiàng)目。
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Huace-300華測(cè)*絕緣材料表面體積電阻率測(cè)定機(jī)

更新時(shí)間：2024-06-05

型號(hào)：Huace-300

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Huace-300型華測(cè)*絕緣材料表面體積電阻率測(cè)定機(jī)符合標(biāo)準(zhǔn)GB/T 1410-2006《固體絕緣材料體積電阻率和表面電阻率試驗(yàn)方法》和《絕緣材料的直流電阻或電導(dǎo)試驗(yàn)方法》等標(biāo)準(zhǔn)的要求。
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Huace-300數(shù)顯式絕緣材料表面體積電阻率測(cè)定機(jī)

更新時(shí)間：2024-12-12

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Huace-300型數(shù)顯式絕緣材料表面體積電阻率測(cè)定機(jī)符合標(biāo)準(zhǔn)GB/T 1410-2006《固體絕緣材料體積電阻率和表面電阻率試驗(yàn)方法》和《絕緣材料的直流電阻或電導(dǎo)試驗(yàn)方法》等標(biāo)準(zhǔn)的要求。
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Huace-300集成電路絕緣材料表面體積電阻率測(cè)定機(jī)

更新時(shí)間：2024-12-12

型號(hào)：Huace-300

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集成電路絕緣材料表面體積電阻率測(cè)定機(jī)既可測(cè)量高電阻，又可測(cè)微電流。測(cè)量精度達(dá)到3‰。同時(shí)儀器體積小、重量輕、本儀器具有精度高、顯示迅速、性好穩(wěn)定、讀數(shù)方便等優(yōu)點(diǎn)。
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Huace-300重量輕絕緣材料表面體積電阻率測(cè)定機(jī)

更新時(shí)間：2024-06-05

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重量輕絕緣材料表面體積電阻率測(cè)定機(jī)既可測(cè)量高電阻，又可測(cè)微電流。測(cè)量精度達(dá)到3‰。同時(shí)儀器體積小、重量輕、本儀器具有精度高、顯示迅速、性好穩(wěn)定、讀數(shù)方便等優(yōu)點(diǎn)。
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Huace-300體積小絕緣材料表面體積電阻率測(cè)定機(jī)

更新時(shí)間：2024-12-12

型號(hào)：Huace-300

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體積小絕緣材料表面體積電阻率測(cè)定機(jī)既可測(cè)量高電阻，又可測(cè)微電流。測(cè)量精度達(dá)到3‰。同時(shí)儀器體積小、重量輕、本儀器具有精度高、顯示迅速、性好穩(wěn)定、讀數(shù)方便等優(yōu)點(diǎn)。
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